1.紫外光刻胶(Photoresist)
各种工艺:喷涂专用胶,化学放大胶,lift-off胶,图形反转胶,高分辨率胶,LIGA用胶等。
各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。
各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。
2. 电子束光刻胶(电子束抗蚀剂)(E-beamresist)
电子束正胶:PMMA胶,PMMA/MA聚合物, LIGA用胶等。
电子束负胶:高分辨率电子束负胶,化学放大胶(高灵敏度电子束胶)等。
3. 特殊工艺用光刻胶(Specialmanufacture/experimental sample)
电子束曝光导电胶,耐酸碱保护胶,全息光刻用胶,聚酰亚胺胶(耐高温保护胶)等特殊工艺用胶