涡轮分子泵 TGkine3800M-R / TGkine4200M-R

省电设计
■ 在真空泵本体中，可存储设置参数，运转数据及异常历史等。
　※在维护阶段更换控制器，也可实现全数据转移。
■ 支持多种通信接口规格 （兼容EtherCAT通信协定）
■ 适用于国际规格 CE/NRTL/SEMI-S2

用途

■ 半导体制造设备
■ FPD制造设备
■ 太阳能电池制造设备
■ 玻璃/镜片等光学部件加工
■ 镀膜工艺
■ 加速器/宇宙环境模拟器

• 规格

• 外观尺寸表

• 性能曲线

• 控制器

型号※1		TGkine3800M-R	TGkine4200M-R
吸气口法兰		VG300 / ISO-B320	VG350
排气口法兰※2		KF40 / KF50
排気速度	N2 (L/s)	3600	4200
	N2(付带金属保护网) (L/s)	3400	4000
	H2 (L/s)	2700	2700
大压缩比	N2	>2×108
	H2	2×103
大气体流量※3、※4	N2 (sccm)	2800
	Ar (sccm)	1300
起动时间	(min)	≦12
停止时间	(min)	≦14
到达压力※5	(Pa）	<5×10-7
	(Torr）	<3.8×10-9
大排气口压力※6	(Pa)	160
	(Torr）	1.2
推荐前级泵	(L/min)	≧2000
安装方向		正立或倒立安装
质量	(kg)	72 / 74	70

※1：有关型号等咨询，请联系销售人员。※2：由于型号不同，规格表将会有所变化。※3：1Pa・L/s(25℃)=0.543sccm(0℃、1气压)※4：当排气口的前级排气速度值为5000L/min。※5：加热48小时后的到达压力。※6：在氮气环境中，真空泵无损伤的情况下，可连续运转的大排气口压力。