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AZ 5214E紫外光刻胶提高其成膜性和显影性

更新:2024-05-01 11:08 发布者IP:27.154.212.87 浏览:0次
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产品详细介绍

AZ5214E高解像度图形反转正/负可改变型光刻胶,特别为lift-off工艺优化。AZ5214E匀胶厚度1.5μm~3μm,AZ5200E系列匀胶厚度为:0.5μm~6μm。

AZ5214E特征:

1) 适用于高分辨率工艺(lift-off工艺);

2) 适用于正/负图形;

3) 很宽的膜厚范围。

AZ 5200E系列光刻胶参考工艺条件:

前烘 :100℃ 60秒 (DHP);

曝光 :I线步进式曝光机/接触式曝光机;

反转烘烤 :110~125℃ 90秒 (DHP):去离子水30秒;

全面曝光 :310~405nm

 (在曝光光源下全面照射);

显影 :AZ300MIF (2.38%) 23℃ 30~60秒Puddle;

        :AZ Developer(1:1)23℃ 60秒Dipping;

        :AZ400K(1:4)23℃ 60秒Dipping;

清洗 :去离子水30秒;

后烘 :120℃ 120秒 (DHP);

剥离 :AZ剥离液及/或氧等离子体灰化;

产品型号:

型号

AZ5206E

AZ5214E

AZ5218E

AZ5200NJ

粘性

7mPa

25mPa

40mPa

85mPa

AZP4620超厚膜,高对比度,高感光度G线标准正型光刻胶,适用于半导体制造及GMR磁头制造。

特征:

1) 高对比度,高感光度

2) 高附着性,对电镀工艺高耐受性

3) 多种粘度可供选择

参考工艺条件:

前烘 :100℃ 90秒以上 (DHP)

曝光 :G线步进式曝光机/接触式曝光系统

显影 :AZ300MIF显影液23℃ 60~300秒

清洗 :去离子水

后烘 :120℃ 60秒以上

剥离 :AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

产品型号:

型号

AZ P4210

AZ P4330

AZ P4400

AZ P4620

AZ P4903

粘性

49mPa

115mPa

160mPa

400mPa

1550mPa

AZ®4500系列  AZ4562

具有佳粘附力的厚光刻胶

特点:

AZ ® 4500系列(AZ ® 4533和AZ ® 4562)是正性厚光刻胶,在普通湿法蚀刻和电镀工艺中具有优良的粘附性能:

l  优化对所有常见基材的附着力

l  宽广的工艺参数窗口,可实现稳定且可重复的光刻工艺

l  与所有常见的显影液兼容(基于KOH或TMAH)

l  与所有常见的去胶剂兼容(例如AZ100去胶剂、有机溶剂或碱性溶剂)

l  对g,h和i线敏感(约320-440 nm)

l  光刻胶厚度范围约 3-30微米

AZ ® 4500系列(AZ ® 4533和AZ ® 4562)的溶剂浓度不同,因此可达到的光刻胶膜厚有较大的范围:

光刻胶型号

光刻胶膜厚范围

包装规格

AZ ® 4533

转速为4000 rpm时,膜厚约为3.3 µm;通过改变转速,膜后可达2.5-5 µm。

多规格包装,如1L、2.5L等

AZ ® 4562

转速为4000 rpm时,膜厚约为3.3 µm;通过改变转速,膜后可达4.5-10µm;调整旋转轮廓(中等旋涂速度下短时间旋涂),可达30 µm膜厚。

多规格包装,如1L、2.5L等

若光刻胶膜厚度 30 µm?

通常,AZ®4562可以用来涂覆厚度达30微米及以上。然而,在该厚度范围内,软烘烤、曝光、显影等变得非常耗时。此外,如果涂得太厚,AZ®4562也可能在曝光期间形成N2气泡。因此,对于厚度大于30 µm的光刻胶膜厚度,强烈建议使用化学放大的AZ®40 XT光刻胶。

显影液——适用于AZ ® 4500光刻胶

如果可以使用含金属离子的显影液,可使用1:4稀释的KOH基AZ®400K作为显影液(对于更高的光刻胶膜厚度,可用1:3.5 -1:1的稀释浓度)。

如果必须使用不含金属离子的显影液,我们建议使用基于TMAH基的AZ®326 MIF,AZ®726 MIF或AZ®826MIF显影剂(未稀释)。

去胶剂——适用于AZ ® 4500光刻胶

对于非交联的光刻胶薄膜,可以使用AZ®100作为去胶剂,DMSO或其他常见的有机溶剂作为剥离剂。如果光刻胶膜已交联(例如,在干法蚀刻等离子工艺或离子注入时,>140°C的高温步骤时),我们建议使用不含NMP的TechniStrip P1316作为去胶剂。

EM胶

电子束光刻胶

型号

光源

类型

分辨率

厚度(um)

适用范围

SU-8 GM1010

电子束

负性

100nm

0.1-0.2

可用于做高宽比较大的纳米结构。

HS/004/006

电子束

负性

6nm

30nm~180nm

分辨率好的光刻胶,抗刻蚀。

HS/16

电子束

负性

100nm

350nm~810nm

分辨率好的光刻胶,抗刻蚀。

PMMA(国产)

电子束

正性

\

\

高分辨率,适用于各种电子束光刻工艺,常用的电子束光刻正胶。

PMMA(进口)

电子束

正性

\

\

MicroChem,各种分子量,适用于各种电子束光刻工艺,常用的电子束光刻正胶。

PMGI&LOR Lift-off光刻胶

PMGI&LOR光刻胶可在数据存储、无线IC和MEMS等各种应用中实现高产量,金属剥离工艺。在双层光刻胶层使用时,PMGI和LOR将工艺范围扩展到单层光刻胶层所能达到的范围之外,包括高分辨率金属化(<0.25µm),以及很厚(> 4µm)金属化。这些独特的性能适用于多种材料,可满足客户的各种需要。

材料用途:金属电梯加工,桥制造,释放层


所属分类:中国仪表网 / 其他仪器仪表配附件
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成立日期2018年03月19日
法定代表人石进良
注册资本100
登记机关厦门市工商行政管理局
主营产品美国PTI粉尘,日本JIS粉尘德国DMT,KSL 美国AATCC,英国SDC,JAMESH 测试用品HANOVIA 灯管6824F446 UV灯
经营范围五金产品批发;电气设备批发;计算机、软件及辅助设备批发;通讯及广播电视设备批发;非金属矿及制品批发(不含危险化学品和监控化学品);金属及金属矿批发(不含危险化学品和监控化学品);建材批发;化肥批发;其他化工产品批发(不含危险化学品和监控化学品);贸易代理;其他贸易经纪与代理;经营各类商品和技术的进出口(不另附进出口商品目录),但国家限定公司经营或禁止进出口的商品及技术除外;纺织品、针织品及原料批发;服装批发;鞋帽批发;化妆品及卫生用品批发;厨房、卫生间用具及日用杂货批发;灯具、装饰物品批发;家用电器批发;汽车零配件零售;摩托车零配件零售;机动车燃料零售(不含成品油、车用燃气和其他危险化学品);家用视听设备零售;日用家电设备零售;计算机、软件及辅助设备零售;通信设备零售;其他电子产品零售;五金零售;灯具零售。
公司简介美国PTI粉尘,日本JIS粉尘,德国DMT粉尘,美国AATCC测试用,英国SDC,JAMESH,日本测试用品,理美国PTI公司杂质颗粒尺寸分析试验、检测设备及各种试验粉尘。代理德国DMT公司的符合IEC60312标准的试验粉尘。同时,公司还代理进口日本JIS标准试验粉尘。满足国内汽车零部件、光纤,电子等行业企业的实验室以及一些独立检测机构对于进口试验粉尘的需求。1.狮力昂UV膜NO.6360-95 ...
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