2.1.3ZEP520A的光刻工艺流程
2.1.4 旋涂曲线
2.1.5 旋涂曲线(稀释参考数据)
2.1.6 前烘温度对清除剂量的影响
2.1.7 显影温度对清除剂量的影响
2.1.8 显影时间对清除剂量的影响
2.1.9ZEP520A剂量与厚度的对比曲线
2.1.10 安全处理预防措施
2.2 基于电子束光刻胶PMMA的光刻标准工艺
2.2.1 特征
2.2.2PMMA的光刻工艺流程
2.2.3 旋涂曲线
2.3 基于电子束光刻胶AR-P6200的光刻标准工艺
2.3.1特征
2.3.2 AR-P6200的光刻工艺流程