电子束抗蚀剂德国富士TOK光刻胶

美国AZ光刻胶 日本富士光刻胶 日本TOK光刻胶 德国Micro光刻胶 德国Allres光刻胶 瑞士SU-8光刻胶美国Futurrex光刻胶 罗门哈斯光刻胶 英国PMMA光刻胶提供多种SU-8光刻胶，适用于不同的材料和应用环境。我们提供的光刻胶是配好的成品 西安绿山半导体科技有限公司主要生产销售平面研磨抛光设备 各种平面研磨抛光盘 金相试验抛光垫 抛光绒布 二氧化硅抛光液 钻石液 多晶钻石粉 金刚石微粉 纳米抛光液钻石膏 代理美国beck氧化铝抛光粉 销售国际高端高精密研磨设备 研磨抛光材料 日本大明化学氧化铝抛光粉氧化铝球 氧化锆球东京化研各种油墨 住友氧化铝微球微粉 应化光刻胶 东旭研磨膏 研磨产品 DENKA高端切割蓝膜 浩视三维视频显微镜和桌上型扫描电镜瑞士多晶钻石液 钻石粉 德国贺利氏金相研磨抛光材料仪器 Engis公司 喜百事高精密研磨抛光产品 美国航天大功率导电银胶 导电银胶导电油墨 导电浆 金银铜线 扩散材料 红胶 国PTI DMT JIS Microvision品牌进口试验尘粉 1.紫外光刻胶各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。各种波长: 深紫外(DeepUV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。各种厚度:光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。2. 电子束光刻胶 电子束抗蚀电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物，LIGA用胶等。电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。3.特殊工艺用光刻胶电子束曝光导电层，耐酸碱保护胶，全息光刻用胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶）等特殊工艺用胶。 4.配套试剂（Process chemicals）显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。负性光刻胶粘性增强负性光刻胶加工负性光刻胶剥离处理用负性光刻胶正性光刻胶 粘性增强正性光刻胶非光刻涂层 平坦化、保护性、粘性涂层旋涂玻璃旋涂掺杂辅助化学品 边胶清洗剂光刻胶显影剂光刻胶去除剂。 美国进口光刻胶试剂 AZ安智光刻胶 瑞士进口光刻胶高端科技应用材料仪器与销售 主要用于半导体 LED芯片 ；玻璃 晶体、宝石、硬质合金、磁头、精密元器件、硬盘‘ 金属、 陶瓷 IC航空航天 造船 军事 ’卫星 飞机 通讯光纤 ‘金相试验切片表面研磨抛光加工领域，耐磨工件表面符合镀领域， 各种行业产品高精密研磨抛光的佳理想选择的材料