INFICON QuantusHP100气体分析仪基于自等离子体光发射光谱技术(SPOES),旨在提供半导体制造过程中的实时泄漏检测、端点检测和过程监控。QuantusHP100具有出色的灵敏度,外形紧凑,提供宽广的操作压力范围,无需昂贵的泵,非常适合大多数半导体工具的过程监控和保护。
特点
氩气的操作范围为1 Torr - 450 Torr,氮气的操作范围为1 Torr - 120Torr(其他气体种类则有所不同)
低检测限<1 ppm
使用标准KF25连接,安装方便
快速采样(大20赫兹)
占地面积小(高x宽x长):6.4 x 6.0 x 8.3 in. [162 x 153 x 210 mm]
低维护,不需要泵或消耗品
方便的现场可更换的等离子池
为您的特殊工艺需求提供全球专家支持
规格
操作压力 | 1 Torr - 450 Torr (取决于应用) |
光谱仪性能 | 200至850纳米波长(紫外-可见光) 16位全尺度分辨率,3648像素 |
检测极限 | < 1 ppm (取决于应用) |
曝光时间 | 少1毫秒 |
真空配件 | KF25 |